深圳市眾誠達應用材料科技有限公司的合金平面靶材有著先進的配方工藝，采用真空熔煉、粉末冶金技術，生產的合金靶材系列具有合金成分均勻，致密性好，含氧量低，純度高等特點，可根據(jù)客戶要求加工成不同尺寸、形狀、厚度的產品，靶材性能優(yōu)異。相對密度100%，純度> 99.95%，該合金平面靶材主要應用于薄膜太陽能工業(yè)、液晶顯示、有機發(fā)光二極管、光學和低輻射玻璃等。

    深圳市眾誠達應用材料科技有限公司主要生產經(jīng)營磁控濺射鍍膜靶材和靶材綁定。濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高，一般要求如，尺寸、平整度、純度、各項雜質含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制；較高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物（氧化物）含量與尺寸、導磁率、超高密度與超細晶粒等等。磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，就是用電子槍系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。 濺射靶材有金屬，合金，陶瓷，硼化物等。